服務熱線
| 品牌 | KOSAKA/小坂研究所 | 產地類別 | 進口 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 綜合 |
項目 | 內容 | 規(guī)格概述 |
1 | 波長范圍 | 420~1000nm |
2 | Resolution | 1 nm |
3 | 膜厚測定范圍 | 250 A- 20 um |
4 | 膜厚測定精度 | T=±5A, N=±0.02 based on SiO2 1100A standard wafer |
5 | 膜厚測定重復性 | SR Thickness repeatability: ≤ 1? (1?) (at 1100?, SiO2/Si) |
6 | 測定光源 | 鹵素燈泡(含 Constant Current Power Supply) |
7 | 透明基板里面反射補正機能 | 包括透明基板背后反射的修正(軟件) |
8 | 測定SPOT徑(Spot Size ) | 50 um Diameter ( 20 X Objective ) , can be smaller with less signal / noise ratio |
9 | Tact time | 2S（測試1S+分析1S） |
KOSAKA小坂致東Radiation全光譜反射儀
● 緊湊型膜厚量測設備
● 安裝移動迅速便捷
● 適用于所有非金屬膜質
● 多樣化的應用選擇
● 工業(yè)標準數(shù)據端口
KOSAKA小坂致東Radiation全光譜反射儀
● 緊湊型膜厚量測設備
● 安裝移動迅速便捷
● 適用于所有非金屬膜質
● 多樣化的應用選擇
● 工業(yè)標準數(shù)據端口