185nm 與 254nm 光技術(shù)核心應(yīng)用與優(yōu)勢

一、高效凈化與多元表面處理能力

• 樹脂基材優(yōu)化：通過光子能量激活樹脂表面分子，顯著提升表面潤濕性，使粘合劑、油漆、涂層的附著力提升 30%-50%，適用于汽車零部件、電子封裝等粘結(jié)場景；

• 全基材預(yù)處理：廣泛適配金屬（如不銹鋼、鋁合金）、玻璃、陶瓷等材質(zhì)，完成表面活化、粗糙化改性，替代傳統(tǒng)化學(xué)蝕刻工藝，減少污染排放；

• 精密制造場景：在半導(dǎo)體光刻環(huán)節(jié)實(shí)現(xiàn)光刻膠灰化（Ashing），以及電鍍前的納米級(jí)清潔，確保線路圖形精度與鍍層結(jié)合力。

二、技術(shù)易用性與功能創(chuàng)新

• 操作智能化：集成自動(dòng)化控制系統(tǒng)，一鍵啟動(dòng)紫外線處理流程，無需復(fù)雜參數(shù)調(diào)試，降低人工操作門檻；

• 靈活尺寸適配：200×200mm 矩形照射區(qū)域，既滿足實(shí)驗(yàn)室級(jí)小批量樣品研發(fā)測試，又可嵌入小型生產(chǎn)線，實(shí)現(xiàn)日均千件級(jí)量產(chǎn)處理；

• 均勻處理保障：搭載 360° 可旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)，配合勻光透鏡技術(shù)，使紫外光輻照均勻性達(dá) ±5%，避免局部過曝或處理不足，尤其適合曲面、異形件表面的一致性處理。